Firmy


Wystawa „Art in Fashion” w PIASA

Zosia Żeleska-Bobrowski I Wesela, Chrzciny, Bale
20 września, 2025

W piątkowy wieczór, 5 września 2025 roku, tydzień przed oficjalnym otwarciem New York Fashion Week, odbyła się niezwykła uroczystość w siedzibie Polskiego Instytutu Naukowego w Ameryce (PIASA), przygotowana we współpracy z Konsulatem Generalnym RP w Nowym Jorku oraz Metropolis Artists Agency (MAA). Setki miłośników mody i sztuki miało okazję uczestniczyć w tym wyjątkowym wydarzeniu.

Wystawa „Art in Fashion” w PIASA
Zdjęcie: Zosia Zeleska-Bobrowski

Wystawa „Art in Fashion”, w oryginalny sposób łącząca świat sztuki i mody, zgromadziła wybitnych fotografów, przedstawicieli środowisk konsularnych, aktorów, modeli oraz dziennikarzy. Wśród artystów, których prace zaprezentowano, znaleźli się wybitni polscy twórcy: Izabela Łapińska i Patrycja Plesiak oraz Amerykanie: Jeff Kravitz, Brana Dane, Patrik Andersson oraz Macrae Marran.

Izabella Łapińska – polska artystka, fotografka i profesor Szkoły Filmowej w Łodzi gdzie uzyskała doktorat z zakresu sztuki filmowej ze specjalizacją w fotografii. Jej prace były prezentowane na całym świecie i publikowane w prestiżowych europejskich magazynach. Zajmuje się również krytyką fotografii, filmu i reklamy, koncentrując się na ciele, erotyzmie i wykluczeniu w sztuce. Na wystawie przedstawiła serię dziewięciu biało-czarnych zdjęć „Zmysłowość w Elektrowni Scheiblera”, modelki sfotografowanej w pięknych wnętrzach historycznej Elektrowni Karola Scheiblera w Łodzi, zbudowanej w 1910 roku, a zaprojektowanej przez Alfreda Frische w stylu Art. Nouveau.

Patrycja Plesiak – innowacyjna projektantka mody, absolwentka ASP w Łodzi. Autorka ponad 50 kolekcji łączących sztukę, architekturę i technologię w duchu zrównoważonej mody, prezentowanych m.in. w Paryżu, Nowym Jorku i Mediolanie. Jej prace były prezentowane w magazynach VOGUE, Harper’s Bazaar i ELLE. Ubierając osoby publiczne, w tym Miss Świata, wciąż na nowo definiuje granice współczesnej mody. Na wystawie zaprezentowała cztery projekty kreacji, w których występowały modelki na wernisażu.

Jeff Kravitz - fotograf z Nowego Jorku, którego portrety łączą modę z wyidealizowaną estetyką lat 90. Działa od 2015 roku, a jego prace uchwycają kinowe momenty w jednym kadrze, oferując widzom intymne poczucie uczestnictwa w każdej scenie.

Brana Dane - modelka i artystka wizualna, której prace zgłębiają relacje między społeczeństwem, naturą i siłą kobiecego ciała. Wystawiała swoje prace na wielu wystawach, w tym na swojej pierwszej wystawie indywidualnej w 2018 roku.

Patrik Andersson - fotograf z Nowego Jorku, którego kariera obejmuje czarno-białe portrety ikon kultury, pełne życia sesje modowe, globalne kampanie i filmowe opowieści.

Macrae Marran - artysta z Florydy, którego twórczość łączy fotografię, design i sztuki piękne. Z doświadczeniem w fotografii modowej, wnosi kinową wrażliwość na światło i kompozycję, tworząc obrazy ponadczasowe i współczesne.

Kuratorami wystawy byli: Mariusz Bargielski i Brana Dane.

Wystawę zaszczycili swoją obecnością konsulowie: Przemysław Postolski, Wiktor Cichecki oraz Paulina Dragan.

Ekspozycję można oglądać w Galerii PIASA (208 East 30th Street, New York, NY 10016) do 19 września 2025 roku, we wtorki, środy i czwartki w godzinach 10:00–15:00.

Uczestnicy wernisażu „Art in Fashion” w PIASA. Foto: Zosia Zeleska-Bobrowski

Galeria

Żeleska–Bobrowski, Zosia

Fotograficy


New York, NY
POKAŻ TELEFON FIRMY
tel: Zadzwoń klikając na tel. i powiedz, że dzwonisz z Polonijnej Książki

ARTYKUŁY TEJ FIRMY

Znajdź artykuł

ZNAJDŹ FIRMĘ

Dodaj swój biznes do naszego katalogu

Masz Firmę?

  1. Zarejestruj konto
  2. Dodaj info do łatwego znajdywania
  3. Zdobądź nowych klientów
DODAJ FIRMĘ

Copyright © 1999-2025 POLONIJNA KSIĄŻKA, a Polish Pages, Inc. company. Wszelkie prawa zastrzeżone. Materiały­ zawarte w katalogu nie mogą być bez pisemnej zgody reprodukowane - w całości lub części - w jakiejkolwiek postaci. Wydawcy katalogu nie ponoszą odpowie­dzial­noś­ci za treść reklam, artykułów i komentarzy. Opinie zawarte w ar­tykułach wyrażają poglądy ich autorów i nie muszą być zgodne ze stanowis­kiem wydawców. Wszystkie reklamy zaprojektowane przez POLISH PAGES, INC. są chronione prawem autorskim i mogą być użyte tylko w publikacjach POLISH PAGES, INC.